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主營產(chǎn)品： 光學(xué)設(shè)備、電子計測儀器、科學(xué)儀器、機械加工設(shè)備、環(huán)境試驗設(shè)備、PC周邊用品、作業(yè)工具用品、物流保管用品、化學(xué)用品、FA自動化
產(chǎn)品中心
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產(chǎn)品資料

實驗·研究用曝光設(shè)備
產(chǎn)品型號：MA-1400
簡介：

實驗·研究用曝光設(shè)備MA-1400 實驗·研究用曝光設(shè)備簡練設(shè)計的手動式整面單次曝光裝置。對應(yīng)玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)

實驗·研究用曝光設(shè)備  的詳細介紹


實驗·研究用曝光設(shè)備MA-1400

深圳市京都玉崎電子有限公司

項目擔(dān)當(dāng)：陳永康
電話：13717018123

Q  Q：2853007784

網(wǎng)址：www.qfzxw.com

實驗·研究用曝光設(shè)備MA-1400

實驗·研究用曝光設(shè)備MA-1400


實驗?研究用曝光裝置

簡練設(shè)計的手動式整面單次曝光裝置。

主要特長實驗·研究用曝光設(shè)備
  • 對應(yīng)玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)。
  • 可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。
  • 對應(yīng)*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據(jù)用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學(xué)系統(tǒng)。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學(xué)鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等。
実験?研究用露光裝置
主要規(guī)格實驗·研究用曝光設(shè)備
  MA-1200 MA-1400
基板尺寸 Max 200 x 200mm
?4" ～ ?6" 		Max 400 x 400mm
光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW
外觀尺寸及重量 本體尺寸 W1240 x D1100 x H1725 mm W1440 x D1590 x H1882 mm
本體重量 400kg 400kg(包含無塵機房)
光源重量 － 250kg
選購項 無塵機房、背面對位、硬接觸(真空密著式)、自動對位、對應(yīng)破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

※基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽